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石墨烯薄膜快速轉移方法

石墨烯轉移
石墨烯是自然界硬度較高、厚度較低的一種材料,在導電、電子、光學、熱輻射性等各方面均有優(yōu)異的性能,因而被廣泛看好擁有廣闊的前景應用于微電子、改性新材料、航空*行器、新能源等領域,所以其被認為是新世紀戰(zhàn)略性劃時代的材料。
石墨烯結構示意圖
石墨烯常見的形態(tài)為兩類:石墨烯粉體和石墨烯薄膜。石墨烯粉體為納米——原子級,十層以內二位結構的石墨自然聚集,被視為石墨烯,常見制備方法為液相剝離法、氧化還原法等。石墨烯薄膜是層數(shù)較少、一般為單層到十層以內、需生長或生長后通過一定技術手段轉移于一定特殊基底上的,有連續(xù)分布石墨烯的材料。
理想的石墨烯是原子級二維正六邊形結構碳原子,不過很多商家銷售并不是真正意義上的石墨烯,而是由不完全二維結構的多層以上碳原子碎片拼湊的多晶碳薄膜,與理論上石墨烯薄膜有著相當大的區(qū)別。
根據(jù)**標準化組織 iso 定義,石墨烯可以是單層、雙層、多層(3-10 層)、或者納米片結構(厚度 1-3 納米,直徑 100 納米到 100 微米)。
單層石墨烯
而較有科研**和技術含量的是單層、雙層或多層石墨烯。
銅基底石墨烯薄膜成品
cvd石墨烯薄膜是較為常見的一種產(chǎn)品,cvd法制備的石墨烯薄桿,初始大多都是生長在銅基底上面的,因此,在很多實驗中都是需要把石墨烯轉移到自己需要的基底上面,在轉移過程中也是一個相對比較麻煩的事情,那么,有沒有一種能夠簡單快速轉移的石墨烯薄膜?為了解決實際操作中出現(xiàn)的困難,通過微晶科技快速轉移石墨烯薄膜可實現(xiàn)快速、穩(wěn)定、高質量制備石墨烯薄膜;通過泡取式石墨烯的刻蝕制得石墨烯薄膜,再將其轉移到懸空基底上,此時只需將其再去離子水中釋放即可實現(xiàn)輕松快速轉移至各種基底的石墨烯薄膜,微晶科技的石墨烯薄膜保護層薄膜(常見為pmma)轉移到目標基底后,低溫烘干,浸泡丙酮即可去除保護層,使用及其方便,可為科研機構和各大高校節(jié)約大量的時間和精力,較大程度降低了使用成本,使石墨烯薄膜的普及較加便利高效。
石墨烯薄膜轉移制備中
合肥微晶材料科技有限公司專注于石墨烯熱輻射涂料,石墨烯熱輻射漿料,石墨烯散熱涂料等

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